No. 種類 出願番号 特許名
1 発明 2021106172567 ビス(フルオロスルホニル)イミド塩溶液の製造方法
2 発明 2019103543708 リチウム電池電解質の造粒方法
3 発明 2019111399357 高純度ビス(フルオロスルホニル)イミド塩の製造方法
4 発明 2019101786758 ビス(フルオロスルホニル)イミド塩の新規プロセス
5 発明 2017104400191 ジフルオロリン酸エステルを用いたリチウムジフルオロホスフェートの製造方法
6 発明 2019105885964 トリスオキサレートホスフェート塩の製造方法
7 発明 2020102409441 ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンの製造方法
8 発明 2019103541346 リチウムテトラフルオロボレート結晶粒子の製造方法
9 発明 2018101734890 2,2-ビス(3,4-キシリル)ヘキサフルオロプロパンの製造方法
10 発明 2018104995943 リチウムジフルオロホスフェートの製造方法
11 発明 2017110309778 ビス(フルオロスルホニル)イミド塩の製造方法
12 発明 2019103543695 2-フルオロ-1,3-プロパンスルトンの製造方法
13 発明 2018109191040 リチウムジフルオロホスフェートの製造方法
14 発明 2017104400242 リチウムビスオキサレートボレートを用いたリチウムジフルオロオキサレートボレートの合成方法
15 实用新型 2019203000660 テトラビニルシラン製造用薄膜蒸発設備